上颌牙列缺失CDIC种植体配合磁吸附义齿修复一例

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更新时间：2017-12-26 09:58

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病例摘要

【基本信息】男，67岁

【病案介绍】

主诉

患者男性，67岁

现病史

上颌牙列缺失多年，曾多次行活动义齿修复，都因义齿固位差，不能正常进食而无法佩戴，现活动义齿折断来我院要求重新修复。

查体

上颌牙列缺失，牙槽嵴圆钝，低平，固位差，31、37、41、42、45、46、47牙齿缺失，牙槽嵴丰满，考虑病人经济情况选择13、23种植CDID4410两枚种植体，磁性附着体加金属支架覆盖义齿修复设计，45、47种植CDIC4410两枚植体，烤瓷联冠修复设计，41、42、31烤瓷固定桥修复。

【诊治过程】

诊治经过

术前取研究模型，排牙试样确定咬关系，常规消毒铺巾，嵴顶麻醉，13、23位置先锋钻于牙槽嵴顶偏腭侧定点定位，直接穿龈不翻瓣，麻花钻确定方向和深度，扩骨钻逐号扩大至植体对应型号，生理盐水冲洗，植入植体，初期稳定性好。病人感觉种植牙痛苦小，方便快捷，一月后45、47植入两枚植体，初期稳定性好。术后5个月复诊，病人无不适，植体稳固，X线片示：CDIC植体周围骨结合良好，无明显骨吸收，13、23连接日本MAGFITDX磁附体，活动义齿修复，45、47连接基台烤瓷冠桥修复，修复体带入后吸附力强，固位好，恢复咀嚼功能高。术后两年复诊，活动义齿固位好，烤瓷冠边缘密合，X线片示：13、23、45、47植体周围无明显骨吸收，病人对修复效果满意。

【其他】

【讨论】上颌牙列缺失，选择13、23位置植入两枚种植体；本病例采用微创、不翻瓣直接穿龈，创伤小，出血少，手术时间短。而13、23处于牙列的中前部，是前牙与后牙的转折位置，此位置对两枚植体修复而言相对平衡，避免义齿前后翘动，同时结合日本MAGFITDX磁附体使上颌义齿负重时较为稳定；而经济条件又不能承受多枚种植及高端种植体品牌修复；CDIC植体经过临床观察能够形成较好的骨结合，且功能负载两年后，垂直方向骨吸收小于0.2mm/年，能够达到AlbrekantssonT成功标准。